ユニテンプジャパン(株)のカタログ

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高速アニール加熱炉 VPO-1000-300

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【VPO-1000-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能なΦ8インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度:1000℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼...

真空はんだリフロー装置 VSS-450-300

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【VSS-450-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能な真空はんだリフロー装置。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度:450℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応。高速赤外(IR)ヒ...

フロントローディング式真空プロセス高速加熱炉 RTP-150

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【RTP-150】は、装置筐体部の冷却機構を標準装備したΦ6インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。安全に配慮しながら最大到達温度:1000℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応する。また、高速赤外(IR)ヒーターを装備し...

フロントローディング式真空プロセス高速加熱炉 RTP-100

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【RTP-100】は、装置筐体部の冷却機構を標準装備したΦ4インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。安全に配慮しながら最大到達温度:1200℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応する。また、高速赤外(IR)ヒーターを装備し...

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