ロングディスタンスタイプで段差のある実装された基板の測定に好適

【XDV-μ LD】は、ポリキャピラリーレンズを採用した蛍光X線式測定装置。約12mmのサンプルとの測定距離があるロングディスタンスタイプのため、段差のある実装された基板を非破壊で膜厚測定と素材分析が行える。マイクロフォーカスチューブとポリキャピラリレンズ搭載による微小部測定が可能。 プログラミング可能なXYステージにより自動測定を実現。お問い合わせはこちらへ。

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蛍光X線式測定器 XDV-μ LD

仕様

用途 ■プリント回路基板、コネクタなどの複雑形状の小さな部品や構造部分の測定
■薄膜の厚さ測定(例)≦0.1µmのAu
■複雑な多層コーティングの組成分析、膜厚測定
■オプションにより、大型基板やフレキシブルプリント配線基板用の拡張プレートの取り付け可能
寸法 660×835×720mm(幅×奥行×高さ)

その他の情報

測定元素範囲:S(16)~U(92)
X線検出器:シリコンドリフト検出器(SDD)
X線管球:マイクロフォーカスチューブ
プライマリフィルター:4種類
コリメーター数/サイズ:ポリキャピラリー
測定スポットサイズ:約Φ80µm
測定距離(サンプルとの距離):約12mm
消費電力:最大120W

会社情報

(株)フィッシャー・インストルメンツ

Helmut Fischerは60年以上にわたり、膜厚測定、素材分析、微小硬さ試験、材料試験の分野において革新的な測定技術を開発してきました。
製品ラインアップには、極めて多様な用途や産業向けの測定・分析機器を幅広くカバーし、それぞれの用途に応じて最適な測定方式を用いて精度の高い結果をもたらします。電磁式、渦電流式、ベータ線後方散乱式、電解式、微小硬さあるいは蛍光X線式などいずれの測定方式においても豊富な技術と経験を持ち、あらゆるソリューションを提供してきております

(株)フィッシャー・インストルメンツ
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電話: 0489293455
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