イオンビームスパッタリング装置
用途に合わせた装置で構成、提案
本装置はイオンソースを使用し、成膜材料をイオンビームでスパッタして成膜するイオンビームスパッタリング(IBS)装置。基板はシングルステージまたはプラネタリーステージに搭載。研究開発や生産用として、ユーザーの用途に合わせた装置の構成・提案を行う。オプションでプラネタリーステージ、膜厚計、光学モニター、水晶膜厚計、全自動多層薄膜成膜ソフトウェア、膜設計支援可能を用意。
その他の情報
■プロセス動作圧 10-2Pa台(10-4Torr台)
■高真空成膜可能
■コンタミネーションが少ない
■無加熱成膜
■高密度膜
■反応性成膜可能
■イオンビームアシスト追加可能
■膜厚などの制御性良好
■高真空成膜可能
■コンタミネーションが少ない
■無加熱成膜
■高密度膜
■反応性成膜可能
■イオンビームアシスト追加可能
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関連製品カタログ
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会社情報
当社は、真空業界における専門技術商社であり、真空成膜装置・薄膜材料・消耗品・周辺機器・イオンソースなどの販売、中古製品の売買、保守サービスなど、お客様のニーズに合わせたトータルなサービスをご提案・ご提供いたします。
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