PR
i.MX 8X ベースIoTエッジコンピューティング開発キット
【新登場】ワイヤレスデータロガーHD35シリーズ / WEBデータロガーHD50シリーズ

大気圧クリーン加熱装置

(株)オーナルテック

大気圧下でガラス基板などを加熱

【大気圧クリーン加熱装置】は、大気圧下でガラス基板やシリコンウェハなどの試料を加熱し、成膜や乾燥を行うプレート型ヒータ装置。大気圧でクリーンな加熱ができるほか、粉塵が少ない、金属汚染が少ない、均熱精度が高い、窒素ガスなどに雰囲気を変えられることなどが特長。加熱プレートの大きさは420×500mm。使用温度は最高350℃。

この製品が気になった方はこちら
お問い合わせ
大気圧クリーン加熱装置

関連製品カタログ

高速アニール加熱炉 VPO-1000-300

【VPO-1000-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能なΦ8インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度:1000℃を...

加熱試験装置 KTE-HTA-600D
MiniLab-WF 超高温ウエハー焼成炉 2000℃
フロントローディング式真空プロセス高速加熱炉 RTP-100
高精度プログラマブル ホットプレート HP-220
MiniLab-CF小型超高温カーボン実験炉
フロントローディング式真空プロセス高速加熱炉 RTP-150
蒸気式温水製造ユニット SQ-C01

会社情報

(株)オーナルテック

(株)オーナルテック
〒5670034
大阪府 茨木市中穂積3丁目14番41号
電話: 0726208421
http://www.ohnaru.com/