【カタログプレビュー】フロントローディング式真空プロセス高速加熱炉 RTP-100

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【RTP-100】は、装置筐体部の冷却機構を標準装備したΦ4インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。安全に配慮しながら最大到達温度:1200℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応する。また、高速赤外(IR)ヒーターを装備し、最大毎分7200℃以上(毎秒120℃以上)の高速昇温を行え、もちろん、プロファイルプログラムの指示値による任意の昇温速度で昇温させることも可能。降温プロセスでは、冷却用窒素ガスをチャンバー内に供給することで、処理後のデバイス表面にダメージを与えることなく、安全に冷却を行うことができる。

発行元:ユニテンプジャパン(株)

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