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【カタログプレビュー】高速アニール加熱炉 VPO-1000-300

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【VPO-1000-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能なΦ8インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度:1000℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応。高速赤外(IR)ヒーターを装備し、最大毎分2100℃以上(毎秒35℃以上)の高速昇温を行え、もちろん、プロファイルプログラムの指示値による任意の昇温速度で昇温させることも可能。また降温プロセスでは、冷却用窒素ガスをチャンバー内に供給することで、処理後のデバイス表面にダメージを与えず、安全な冷却が行える。

発行元:ユニテンプジャパン(株)

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