高品質な成膜が室温で実現！

・緻密で均質、かつ均一厚みの膜が形成可能
・用途に応じた膜厚の制御が可能
・ほとんどの金属酸化膜に対応可能
・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能