真空U V 硬化装置KNUV-1
★ 真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP!
★ 最大8インチまでのウェハリング対応!
★ 窒素パージ不要でランニングコスト削減!
★ 工程ウエハ処理に最適!
・酸素濃度を真空環境にしてUV照射すれば硬化不良を低減
・デバイス直下のボイドも真空環境により除去
大気圧(10万Pa)での酸素濃度(約20%)
本機真空チャンバー圧(5Pa)での酸素濃度⇒ 0.001%
8インチウェハリングを搭載可能な真空チャンバーにてUV照射することで硬化効率が大幅に向上
◇ 主要性能
・到達圧力: 6.0Pa 以下 ガスバラスト閉時)
・リークレート: 10.0 Pa/min 以下
最大排気速度 500L/min ドライポンプを使用
ビルドアップ基準値: 1.0Pa ・ L / sec をチャンバー容積に換算
・ UV 照射性能
高圧水銀ランプ採用により、短時間高出力 UV 照射を実現
例) 積算光量: 27.5sec 照射で 550mJ/cm2
・プロセス時間
1 プロセス 60 s 以下
排気スタートから UV 照射完了まで