株式会社テクノビジョン(埼玉県比企郡)は、半導体製造の洗浄工程におけるワーク（ウェハー、ガラス、基板等）の乾燥でお困りの方々に『ホット純水乾燥装置』をご提案いたします。

半導体の製造工程においては、様々な工程で汚染物質が発生します。
その汚染物質を除去する洗浄工程は、半導体製造工程において非常に重要な技術の一つであり、半導体の微細化や環境問題に関連し、高い洗浄技術が求められております。

その洗浄工程において従来から広く用いられてきましたウェット洗浄では、ワークの乾燥は必要不可欠な工程となります。
しかしその乾燥方法は様々で、以下のような問題が見受けられます。

■防爆の危険
■ワークの破損
■膨大なエアー消費
■ワークサイズ変更への対応不可

半導体製造装置のメーカー、株式会社テクノビジョンは、このようなウェット洗浄においてお困りの方に、乾燥工程見直しの検討をご提案させていただきます。

『ホット純水乾燥装置』による乾燥は、温度管理された温水の槽より
引き上げ表面張力を利用した乾燥方法です。
その随所に、これまでの半導体洗浄装置開発のノウハウ、多数の販売実績による顧客からのフィードバックを生かしました。

半導体製造における洗浄工程についてお困りでしたら、柔軟に対応させていただきますので、ぜひお気軽にお問い合わせください。

【お問い合わせ先】
株式会社 テクノビジョン
〒350-0165 埼玉県比企郡川島町中山2078
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