SEMICON West2012に出展
2012/06/29
(株)マグネスケール
日程：2012年7月10日〜7月12日 10：00〜17：00 (最終日16:00)
開催場所：Moscone Center (San Francisco, USA)
ブース：South Hall 813
株式会社マグネスケールは7月10日〜12日までの3日間の日程で開催される【SEMICON West 2012 (アメリカ合衆国・サンフランシスコ】に出展いたします。今回は、450mmウェハに対応可能なスケールやピコメートル分解能非接触変位計など、半導体製造装置で不可欠な高精度ステージで3次元計測を実現する新製品を展示いたします。他にも半導体検査・測定装置メーカーへの豊富なラインアップを取り揃えております。皆様のご来場を心からお待ちしております。
●主な展示内容
1. 450mmウェハに対応可能な長尺スケール
2. ピコメートル分解能を有する非接触変位計
3. 高分解能2次元レーザスケール
4. ナノテクノロジーをリードするレーザスケールラインアップ
5. 高精度で高い安定性を持つレーザスケールと非接触変位計を用いたデモンストレーション
※この他にもレーザスケール技術を紹介する展示を会場でご用意しております。
開催場所：Moscone Center (San Francisco, USA)
ブース：South Hall 813
株式会社マグネスケールは7月10日〜12日までの3日間の日程で開催される【SEMICON West 2012 (アメリカ合衆国・サンフランシスコ】に出展いたします。今回は、450mmウェハに対応可能なスケールやピコメートル分解能非接触変位計など、半導体製造装置で不可欠な高精度ステージで3次元計測を実現する新製品を展示いたします。他にも半導体検査・測定装置メーカーへの豊富なラインアップを取り揃えております。皆様のご来場を心からお待ちしております。
●主な展示内容
1. 450mmウェハに対応可能な長尺スケール
2. ピコメートル分解能を有する非接触変位計
3. 高分解能2次元レーザスケール
4. ナノテクノロジーをリードするレーザスケールラインアップ
5. 高精度で高い安定性を持つレーザスケールと非接触変位計を用いたデモンストレーション
※この他にもレーザスケール技術を紹介する展示を会場でご用意しております。
