株式会社テクノシステム（東京都千代田区）は、成膜過程において複雑に影響し合う「分散・塗布・乾燥」各プロセスのメカニズムを相互に関連づけ、横断的に理解するための基礎知識および応用事例をまとめた「分散・塗布・乾燥の基礎と応用」を発刊しました。

多様かつ高機能な塗布膜の作製、また、より複雑なナノ材料デバイス作製に向けた塗布膜の性能設計、制御、トラブル対策にも役立つ実務書となっており、太陽電池、リチウムイオン二次電池、燃料電池、有機EL、誘電体セラミックス、ガスバリアフィルム、ゼオライト膜、農業用フィルム等、応用例が多数掲載されています。


≪概要≫
湿式の成膜技術は、様々な産業分野において活用されている「ものづくり」の基本的な技術です。すでにこれまで、塗布膜に求められる機能はより高度化、多様化し、欠陥を少なく均一に塗る塗布技術や、分散・塗布・乾燥各装置の開発も著しく進歩発展してきました。さらに最近では、ナノ材料を用いたより複雑な塗布膜作製に対するニーズが高まりつつあります。その一方で、こうしたウエットプロセスは現象が複雑で制御しづらく、そのメカニズムは十分に解明されていないために、経験知の蓄積が重要な役割を果たしてきました。

このような背景をふまえ、本書では、改めて、分散、塗布、乾燥、の各プロセスを横断的に俯瞰しつつ、そのメカニズムを描き出すことを試みました。基礎編では、分散、塗布、乾燥、欠陥の各章において、実際に用いられる塗布・乾燥手法や欠陥、ならびに、そのとき塗液や塗膜で起きている物理化学現象について解説しました。より専門的な内容とともに、基礎知識を盛り込み、初歩的な理解にも役立つよう心がけています。また、応用編では、電池関連、ディスプレイ・照明関連、エレクトロニクス関連、機能性フィルム、プレコート鋼板といった、関連する重要な領域での事例を紹介し、基礎編の理解を補完することを目指しました。

分散・塗布・乾燥、各プロセスのメカニズムを理解することは、より高品質、高機能な塗布膜の設計、制御、トラブル対策、ひいては将来の技術革新に必ずや役立つことと確信しています。


■監修　敬称略　 山口　由岐夫
東京大学　大学院工学系研究科　化学システム工学専攻　
教授　工学博士

■編集委員　50音順・敬称略　
大嶋　寛：大阪市立大学 大学院工学研究科　化学生物系専攻　教授　工学博士 　　
神谷　秀博：東京農工大学　大学院工学研究院　応用化学部門　教授　工学博士 　　
辻　佳子：東京大学　環境安全研究センター　准教授　博士(工学) 　　
淵上　修三：ミネソタ大学　化学工学・材料科学科　フェロー
山村　方人：九州工業大学　大学院工学研究院　物質工学研究系　教授　博士(工学)

■執筆者：44名
■発　刊：2014年 3月 10日　
■体　裁：B5判 二段組上製本 600頁
■価　格：48,000円 （＋税）国内送料弊社負担
■ＩＳＢＮ：９７８-４-９２４７２８-７０-７　Ｃ３０５０
■発　行：株式会社テクノシステム


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