テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。
プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。

直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能。
酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。

4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド
最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度
低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き
試料ステージは直径200mm基板まで選択可能
450℃加熱ステージも選択可能

Arradiance GEMFlowソフトウェアは、
扱いやすく、成膜レシピの作成も簡単に行えます。
温度、ガス流量、高速ALDバルブ、高周波(RF)パワー、
真空隔離など、すべての主要な動作パラメータを制御。
診断システムとログにより、操作中のすべてのシステム・パラメータが追跡可能

RGIP(Reactor Gas Injection Protocol)について
ガスポート監視インターロック機能を備えています。

特長
・小型でコンパクトな卓上タイプのALD装置です。研究室での実験にまた2台目の専用ALD装置として最適
・扱いやすいユーザーフレンドリーなソフトウェアにて成膜レシピの作成も簡単
・オプションにて簡単にプラズマユニットの取り付けが可能
成膜材料
Al2O3、SiO2、 HfO2、 TiO2、ZnO、TiN、 Pt、 Ruなど
詳細はお問い合わせください。
基板
4～8インチ、高さ約25mmまでの構造物
粉体、カーボンナノチューブ(CNT)やグラフェンにも成膜可能
チャンネル数
最多8種類のプレカーサ装備が可能
チャンバー温度
最高300℃(オプション450℃)
オプション
オゾン発生器、 リモートプラズマ装置、 紛体コーティング治具(量子ドットやナノパーティクルへコーティング)、 Load Lockもございます。
詳細はお問い合わせください。
(成膜サービス(有償)も実施しております。詳細はお問い合わせください。)