【GMP Sputter‐400】は、イオンビームアシスト直流スパッタとして精密金型のリリースコ―ティング用のスパッタである。3個のスパッタガンと 1個のイオンガンで構成されており、基板はハロゲンランプによって加熱されている。基板ホルダーは回転とレボリューションが同時にできるように設計してあるので多層薄膜および同時蒸着ができる。