【Roll to Roll Sputter‐R2R300S】は、4個のスパッタガンを装着できる巻き取り式スパッタで、金属、セラミックスのコーティングができる反応性スパッタリングや、多層薄膜のアップスパッタリングができる。対応するプラスチック基板はPET、PI、PA、PC、ライン速度は0.01-20m／min、基板幅は300mmである。装置のサイズは2,940×2,500×2,400mm。RF、DC…

【ClusterSPT‐200】は、TCO蒸着のための酸化物と金属のコ―ティング用クラスター式スパッタとして2つのスパッタチャンバーと1つのグラブボックスで構成されている。基板はロボットによってカセットからチャンバーへ、チャンバーからカセットへ移送する。各チャンバーは8インチガンが3個装着してあるが、最大4個まで 装着可能。多層薄膜のアップスパッ…

【Inline SPT‐370】は、研究開発および小規模生産用にインラインスパッタとして8個のリニアガンを装着するように設計されている。24インチ基板を1つのキャリアの装着して移送することができる。装置はPC制御で、基板洗浄のためにイオンガンも装着できる。ディスプレーITO透明導電膜以外に光学コーティング、無機薄膜コーティング、金属薄膜コーティ…

【OpticalLab‐150S】は、眼鏡レンズの無反射 コ―ティングおよびミラーコ―ティングのような機能性コ―ティングができる多層薄膜反応性スパッタとして、コストパフォーマンスに優れている。1バッチに4個のレンズのローディングができる。工程時間は30分以内で、装置の制御はPCでできる。

【GMP Sputter‐400】は、イオンビームアシスト直流スパッタとして精密金型のリリースコ―ティング用のスパッタである。3個のスパッタガンと 1個のイオンガンで構成されており、基板はハロゲンランプによって加熱されている。基板ホルダーは回転とレボリューションが同時にできるように設計してあるので多層薄膜および同時蒸着ができる。

【Sputter Lab‐150M】は、6インチウェハー用高周波スパッタ(2×7インチガンおよび2×4インチガン)として研究用途向けに開発された。薄膜厚さの均一度および薄膜表面のRMSがかなり低いのが特長で、SiO₂ターゲットを使ってSiO₂薄膜蒸着するほか、Siターゲットを使ってSiO₂薄膜蒸着もできる。装置はPCによって自動制御…

【Sputter Pilot‐150C】は、研究用での多層薄膜のスパッタリングのためのRF、DCマルチスパッタに適している。蒸着膜の厚さ均一度およびRMSは6インチウェハーに対してそれぞれ<±2.8％、25Å(厚さ：228.6nm規準)に調節。サンプルのローディングはロードロッカーを通してできる。装置はPCで制御できる。光学、絶縁膜、金属合金の蒸着への応用に最適であ…

【FTS‐200】は、フェーシングターゲットスパッタ(FTS)としてOLED(有機ELディスプレイ)の透明導電膜の蒸着に使用できる。このチャンバーの中に2つのチルトができるガンが装着してある。多層蒸着と同時蒸着もできる。基板加熱はSiCヒーターを使用して均一に調節されており、基板以外の部品は加熱しない様に設計されている。基板の回転は0〜60rpm内で調…

【Sputter Lab‐200D】は、研究用の多層薄膜のスパッタリングのためのRF、DCマルチスパッタとして使用できる。サンプルのローディングはロードロッカーチャンバーを通じてできる。高速ポンピングのためにクライオポンプが採択されている。基板の位置は自動的に調節される。装置の制御はPCでできる。

【UHV Sputter‐50F】は、UHVスパッタとして研究用に適当である(基底圧力：<6×10⁻⁹Torr)。高真空パンプとしてイオンパンプとターボパンプが採択されている。金属酸化物と金属はロードロッカーチャンバーにプレー蒸着もできるように設計されている。マスクローディングは自動的にできる。磁性材料と金属酸化物、金属の薄膜を蒸着する場合に…

【UHV Sputter‐80P】は、UHVスパッタとして研究用に最適で、基底圧力は数時間内<5×10⁻⁸Torr。高真空ポンプとしてターボパンプだけを採択している。基板ホルダーは自転と公転が同時にできるように設計されており、基板は500度まで加熱できる。多層蒸着と同時蒸着もできるので多様な薄膜センサなどに応用できる。装置の制御はPCでできる。

【Flexlab System 100】は、多目的の研究用RF、DCスパッタとして金属、金属酸化物、金属窒化物,高分子物質などの蒸着ができる。半導体、ディスプレイ、ソーラーセル、バイオチップ、新素材,ナノー材料、サンプルの準備などの用途に適用できる。設置空間をとらず、操作も容易で、値段も安価で提供している。ターゲットとチャンバー窓のシャッター、チ…

【Compact Sputter‐75S】は、多目的の研究用RF、DCスパッタとして金属、金属酸化物、金属窒化物、高分子物質などの蒸着ができる。半導体、ディスプレイ、ソーラーセル、バイオチップ、新素材、ナノ材料、サンプルの準備などの用途に適用できる。設置空間をとらず、操作も容易で、値段も安価である。ターゲットとチャンバー窓のシャッター、チャンバ…

【FlexLab System‐75】は、多目的の研究用RF、DCスパッタとして金属、金属酸化物、金属窒化物、高分子物質などの蒸着ができる。半導体、ディスプレイ、ソーラーセル、バイオチップ、新素材、ナノ材料、サンプルの準備などの用途に使用できる。設置空間をとらず、操作も容易で、値段も安価である。ターゲットとチャンバー窓のシャッター、チャンバー…