【UHV Sputter‐80P】は、UHVスパッタとして研究用に最適で、基底圧力は数時間内<5×10⁻⁸Torr。高真空ポンプとしてターボパンプだけを採択している。基板ホルダーは自転と公転が同時にできるように設計されており、基板は500度まで加熱できる。多層蒸着と同時蒸着もできるので多様な薄膜センサなどに応用できる。装置の制御はPCでできる。