【Sputter Lab‐150M】は、6インチウェハー用高周波スパッタ(2×7インチガンおよび2×4インチガン)として研究用途向けに開発された。薄膜厚さの均一度および薄膜表面のRMSがかなり低いのが特長で、SiO₂ターゲットを使ってSiO₂薄膜蒸着するほか、Siターゲットを使ってSiO₂薄膜蒸着もできる。装置はPCによって自動制御ができる。