【UHV Sputter‐50F】は、UHVスパッタとして研究用に適当である(基底圧力：<6×10⁻⁹Torr)。高真空パンプとしてイオンパンプとターボパンプが採択されている。金属酸化物と金属はロードロッカーチャンバーにプレー蒸着もできるように設計されている。マスクローディングは自動的にできる。磁性材料と金属酸化物、金属の薄膜を蒸着する場合に最適である。