EDAテクノロジ・リーダーであるメンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、OpSIS（Optoelectronic Systems Integration in Silicon）およびルーメリカルソリューションズ（本社: カナダ、ブリティッシュ・コロンビア州、以下ルーメリカル）と協業し、OpSISのIME（Institute of Microelectronics）シリコンフォトニクス・プロセス向けのフルフロー・プロセス・デザインキット（PDK）となる完全なEDA-styleを開発することを発表しました。シリコンフォトニクス・プロセスをシリコンベースの電子部品と統合すると、同一チップ上にドライバと制御用の電子部品を追加搭載できるため、パッケージングの複雑性とコストを大幅に削減できます。また、フォトニクス層とインターコネクトを追加することにより、将来の演算処理とチップ・プラットフォームにおける速度ボトルネックの解消を約束します。

メンター・グラフィックス、OpSIS、ルーメリカルの共同チームによるおよそ1年に及ぶ開発およびテスト期間を経て、OpSISチームは設計をフル実装したプロトタイプと、IMEシリコンフォトニクス・プロセス用の検証フローを実証しました。このフローは、メンター・グラフィックスPyxis®カスタムIC設計プラットフォームによるスケマティック・キャプチャとスケマティック・ドリブン・レイアウト（SDL）を利用するとともに、メンター・グラフィックスのCalibre® nmDRC™およびCalibre nmLVS™設計物理検証ツールによって詳細なパラメータチェックを実行します。このプロトタイプフローは、OpSISのMulti-Project Wafer設計ワークショップに参加している設計チームが利用できます。

「業界内の企業が協力し、シリコンフォトニクス設計者用PDKを開発するというOpSISプロジェクトに寄せられた支援にとても感謝しています。さまざまな用途や研究努力に役立つシリコンフォトニクスを現実のものとするために、通常は個別に営利活動を執っている企業が力を合わせています。」OpSISの共同設立者でDirectorを務めるMichael Hochberg氏は、以上のように述べています。

OpSIS PDKは、Pyxis環境内にルーメリカルINTERCONNECTプロジェクトをユーザが作成し管理するための光学シミュレーションに、ルーメリカルの技術を利用しています。ルーメリカルのINTERCONNECTを使って、統合シリコンフォトニクス回路をシステムレベルで光学解析することができます。コンパクトなモデル開発作業が引き続き行われており、ルーメリカルのFDTD Solutions、MODE Solutions、DEVICEを使って実験データを補完しています。

「EDA-styleのフロー内でフォトニクス回路をシミュレーションするのは非常に困難です。今回、INTERCONNECTに回路をエクスポートしてシミュレーションを実現するための突破口が開かれたことを喜んでいます。この設計とシミュレーション・フローが、共同開発パートナーとエンドユーザの将来のニーズと合致するよう、力を合わせて努力したいと思います。

ルーメリカル、Chief Technology Officer、James Pond博士は、上記のように述べています。

PyxisカスタムIC設計プラットフォーム内で、OpSIS PDKが現在サポートしているコールバック・ドリブンのフォトニクスPCell(パラメタライズ・セル)は、接続性ドリブンの導波路配線機能に含まれている放射曲線、断熱曲線、S曲線を利用して、迅速に生成可能となっています。デザインルール・チェック（DRC）には、Calibre nmDRCに標準装備されているシリコンフォトニクス構造を特別に考慮したSVRFルールとともに、業界の他の量産設計フローと類似したCalibre nmLVSのデバイスチェック機能を利用します。タイルおよびマスクの準備には、Calibre SmartFillとCalibre DESIGNrev™を連携させて利用します。またメンター・グラフィックスは今回、シリコンフォトニクスのテストチップ開発がスムーズに行えるように、OpSISとパートナーシップを結び設計ツールへのアクセスを確保しました。

「シリコンフォトニクスは、特にデータ通信にとって、設計を実現する重要なファクターとなっています。この技術がますます多数のチップに導入されるようになった今、従来のEDAプロバイダにとって、専用のフォトニクス・ツールを供給する企業に加えて、シリコンフォトニクスをサポートするファウンドリとパートナー関係を結ぶことが極めて重要となっています。今回の協業に参加できたことを非常に嬉しく思います。」メンター・グラフィックス、Deep Submicron Division、Director of Marketing、Linda Foslerは、上記のように述べています。 メンター・グラフィックスとOpSISは、米国テキサス州オースティンで2013年6月2日から6月6日まで開催される第50回Design Automation Conference（DAC 2013）会場のメンター・グラフィックスのブース（小間番号2046）において、『Preparing for Pervasive Photonics』というタイトルの特別セッションで講演を行い、シリコンフォトニクスに関する最新事情、共同開発の内容、利用分野について説明します。参加登録と詳しい情報は、www.mentor.com/events/design-automation-conference/をご覧ください。