アルミナパウダー
最終更新日:2014/02/01
このページを印刷
純度99.99％および99.999％の2つのグレードが提供可能
特許の製法で製造された微細で高純度のアルミナパウダー。一次粒径20〜40nm、二次粒径は要望ににより製造可能。良好な粒子形状と均一な粒度分布で、砥粒調整も可能である。半導体シリコンウェハの粗研磨、光学ガラスの研磨に最適である 。
一緒に閲覧されている製品
アルミナパウダーのお問い合わせ
その他製品一覧
レジンボンドメッシュ RGD10
静電研磨テープ GRISH静電研磨…
原生ミクロンパウダー ASM
FOAMTEC社製洗浄パッド(ダイヤ…
レジンボンド用ミクロンパウダ…
立方晶窒化ホウ素ミクロンパウ…
ダイヤモンドコーティング Micr…
合成ダイヤモンド MGD90(メタル…
ディスク研磨材
銅合金用化学研磨剤
MPH(メタルボンドミクロンパウ…
立方晶窒化ホウ素ミクロンパウ…
ダイヤモンドスラリ
多結晶ダイヤモンド微粉 GRISH…
PCD／PDC専用ミクロンパウダー …
ダイヤモンドワイヤー専用ミク…
シリカスラリ
メタルボンドメッシュ(破砕) YR…
植毛研磨フィルム PGZ-1／PGZ-2
多結晶ライクミクロンパウダー …
