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原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD7

日本スウェージロックFST

最終更新日:2023/10/11

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  • 原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD7
常識を覆すパフォーマンス:半導体製造デバイスの歩留まりの最適化・最大化を実現する、超高純度(UHP)用ALD7バルブをリリース
「Swagelok(R) 原子層蒸着(ALD)用ALD7バルブ」は、進化したダイヤフラム・バルブとして、最高レベルの供給精度、高速開閉、数千万回を超える製造サイクルにおいて安定したパフォーマンスを提供。半導体製造デバイスの歩留まりの最適化・最大化に欠かせない一貫性と耐久性を併せ持ち、高温下での熱安定性、耐食性にも優れている。現行の最上位モデルALD6バルブと比較すると、ALD7バルブは流量の一貫性、大流量、作動スピードが向上。
「ALD7」 を新たに加えた幅広い製品ラインアップにて、さまざまなALDプロセス条件において最適なソリューションを提供している。

【特長】
・一貫性の追求:流量、スピード、温度、コンパクトなデザイン
・流量係数(Cv値)0.7
・開閉レスポンス・タイム(応答時間)5ミリ秒未満
・高温下での熱安定性(最高使用温度:アクチュエーター150℃、バルブ200℃)

その他の情報

    Swagelok ALD7 超高純度用(UHP)ダイヤフラム・バルブは、流量の一貫性、大流量、作動スピード、高温性能が向上しており、半導体製造デバイスの歩留まりの最適化・最大化を実現

製品カタログ・資料

 常識を覆すパフォーマンス「ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブ」
常識を覆すパフォーマンス「ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブ」

ファイル形式:pdf ファイルサイズ:0.94MBALDバルブの常識を覆すパフォーマンス 超高純度用Swagelokダイヤフラム・バルブ ALD7は、数百万サイクルを超えても高い信頼性と精度のあるパフォーマンスを発揮するバルブが、デバイスの歩留まりの最大化を実現。 常識を覆すパフォーマンスとして「ALD7」 を製品ラインアップに追加しました。 【特長】一貫性の追求:流量、スピード、温度、コンパクトなデザイン ・流量係数(Cv値)0.7 ・開閉レスポンス・タイム(応答時間)5ミリ秒未満 ・高温下での熱安定性

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