■■■　少量多品種、R＆D用途にも最適　■■■

【TW-200】は、ワークのスクラブ洗浄、リンス、乾燥を一台の装置でスピーディーに行うフォトマスク洗浄装置。
・特殊洗浄ブラシにより、ワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行うことができます。

■主な特長：
(1)縦型処理のため、ワークにストレスがかからない
(2)少量多品種、R＆D用途の基板洗浄にも最適
(3)各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意
(4)ワーク接触部分は樹脂にて対応

・フォトマスク：半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用、その他、板状基板などの洗浄が可能。

※各種オプションも用意。
※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。