【カタログプレビュー】フォトマスク洗浄装置 (フォトマスククリーナー) モデル TW-300

■■■■■ ご存知ですか? 縦型洗浄の理由 ■■■■■
【TW-300】は、ワークの スクラブ洗浄 ・ リンス ・ 乾燥 を一台の装置でスピーディーに行う洗浄装置。
・特殊洗浄ブラシにてワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行う。
■主な特長:
・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない。
・両面洗浄に適した縦型設計
・スモールフットプリント
・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。
・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。
・ワーク接触部分は、樹脂にて対応。
・フォトマスク: 半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可
※各種オプションも用意。
※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。
【TW-300】は、ワークの スクラブ洗浄 ・ リンス ・ 乾燥 を一台の装置でスピーディーに行う洗浄装置。
・特殊洗浄ブラシにてワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行う。
■主な特長:
・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない。
・両面洗浄に適した縦型設計
・スモールフットプリント
・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。
・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意。
・ワーク接触部分は、樹脂にて対応。
・フォトマスク: 半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可
※各種オプションも用意。
※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。
発行元:(株)テクノビジョン