メンター・グラフィックスのCalibreプラットフォームをベースとしたサムスン電子のDFMリファレンス・ソリューションが20nmノードに対応
2012/03/06
シーメンスEDAジャパン株式会社
メンター・グラフィックス・コーポレーション(本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス)は、サムスン電子株式会社(本社: 韓国スウォン市 以下: サムスン電子)と共に、Calibre®プラットフォームを使用するサムスン電子のファウンドリ顧客各社向けに、包括的なDFMサインオフ・リファレンス・ソリューションをリリースしたことを発表しました。これは、先端プロセス・ノードで設計する高性能コンシューマ製品およびテレコム製品のためのDFMサインオフ・ソリューションです。サムスン電子はこれまで、32nm/28nm向けのCalibreキットを提供していますが、今回20nm向けキットのリリースが完了しました。
「メンター・グラフィックスとの緊密な協業により、包括的で一貫性のあるエコシステムをお客様に提供しています。これまで、サムスン電子は複数の先端SoCでメンター・グラフィックスの32nm/28nm向けDFMソリューションを活用し、製品リリースの遅延や歩留まり停滞を招くような、設計の最終段階で発見される問題を削減してきました。今回、このDFMソリューションを20nmにまで拡張しています。」サムスン電子、Infrastructure Design Center、Vice President、Kee Sup Kim氏は、上記のように語っています。
サムスン電子で使用しているCalibre DFMプラットフォームには、リソグラフィ・シミュレーションおよびホットスポット・パターン特定のためのCalibre LFD™、パターンベース・デザインルールおよびホットスポット・チェックおよび修正のためのCalibre nmDRC、Calibre Pattern Matching、そしてDFMスコアリングやクリティカル・エリア解析(CAA)のためにサムスン電子製造解析デックと共に使用するCalibre YieldAnalyzerなどの製品が含まれています。
「先端ノードでは、DFM技術を正しく適用することができれば、それがファウンドリとファブレス設計者双方にとって大きな競争力となります。サムスン電子と協業して、Calibreプラットフォームを活用したソリューションを相互のお客様に提供し、競争力の強化をサポートできることを嬉しく思っています。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiは、上記のように述べています。
「メンター・グラフィックスとの緊密な協業により、包括的で一貫性のあるエコシステムをお客様に提供しています。これまで、サムスン電子は複数の先端SoCでメンター・グラフィックスの32nm/28nm向けDFMソリューションを活用し、製品リリースの遅延や歩留まり停滞を招くような、設計の最終段階で発見される問題を削減してきました。今回、このDFMソリューションを20nmにまで拡張しています。」サムスン電子、Infrastructure Design Center、Vice President、Kee Sup Kim氏は、上記のように語っています。
サムスン電子で使用しているCalibre DFMプラットフォームには、リソグラフィ・シミュレーションおよびホットスポット・パターン特定のためのCalibre LFD™、パターンベース・デザインルールおよびホットスポット・チェックおよび修正のためのCalibre nmDRC、Calibre Pattern Matching、そしてDFMスコアリングやクリティカル・エリア解析(CAA)のためにサムスン電子製造解析デックと共に使用するCalibre YieldAnalyzerなどの製品が含まれています。
「先端ノードでは、DFM技術を正しく適用することができれば、それがファウンドリとファブレス設計者双方にとって大きな競争力となります。サムスン電子と協業して、Calibreプラットフォームを活用したソリューションを相互のお客様に提供し、競争力の強化をサポートできることを嬉しく思っています。」メンター・グラフィックス、Design-to-Silicon Division、Vice President and General Manager、Joseph Sawickiは、上記のように述べています。