株式会社テクノビジョン（埼玉県比企郡）は、露光プロセスに強力な味方！マスク洗浄装置モデルＴＷＣ-300 を発売いたしました。

【概要】
新開発/新製品マスク洗浄装置はフォトリソグラフィープロセスにおける露光工程（コンタクト露光、プロキシミティー露光）で使用されるフォトマスクの洗浄に特化して開発されました。
本装置の特長は、マスクに付着したレジストとパーティクルを一挙に同時に除去する点にあります。
レジスト除去に関しては、このたび大手薬品メーカーと共同で本装置専用薬液を開発し、除去効果を大幅に向上するとともに、安全性や地球環境にも優しい水溶性薬液の開発に成功いたしました。
パーティクル除去についても、弊社の洗浄ノウハウの粋を投入し、すでにご定評頂いている従来装置に更なる改良を加えた新たな装置が誕生いたしました。
装置動作は“薬液洗浄”→“リンス”→“ソフトスクラブ洗浄”→“リンス”→“乾燥”の全工程を自動化。オペレーターはマスクのローディング/アンローディングのみ。フォトマスクのクリーン化で露光プロセスにおける品質向上と製品歩留まりの向上に大きく貢献いたします。

【開発の背景】
ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）、ファインパターンPCB/ＦPC/TAB、化合物半導体、薄膜電子部品、ＭＥＭＳデバイスなどの製造工程/フォトリソグラフィー工程において露光プロセスで使用されるマスクにはレジストやパーティクルの付着が避けられません。これらの付着が重なると正確なパターン転写ができなくなり不良品が発生します。このようなことを避けるために、次のようなことで対応しているのが各社の共通した現状の様です。

1.露光回数を決めて、その回数に達したらマスを破棄して新品の調達（マスクの消耗品扱い）
2.熱硫酸や硫酸過水などの劇薬で手洗浄。
3.マスクメーカーに洗浄依頼。
1.の方法はマスク単価２０〜３０万を何十枚と調達するためランニングコストが膨大となす。
2.の方法は作業者が嫌がる、熟練が必要、作業環境が制限される、周囲の機械が錆びる。
3.は、マスクメーカーが最も嫌がる、新品を買ってほしい、しかしお客さんだから仕方なく対応。

モデルＴＷＣ-300はこの様な問題を一気に解決できる装置です。
テクノビジョンは「マスクの洗浄、管理は露光プロセスの一環」という思想に基づき本装置を開発いたしました。

【主な特徴】
?レジストとパーティクルを同時に除去。
?お客様の用途、目的に合わせた装置設計。
?安全で地球環境にやさしい水溶性の専用薬液を使用。
?パターンに傷をつけないソフトスクラブ洗浄。
?両面洗浄に適した縦型設計。
?ウォーターマークなしの完全乾燥。
?省スペース。

当社では汚染されたマスクをお預かりして洗浄デモンストレーションを行っております。

【お問い合わせ先】
株式会社テクノビジョン
〒350-0165　埼玉県比企郡川島町中山2078
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