「高温ウエハ非接触ハンド」は、高温環境にあるエピタキシャル工程のＣＶＤ装置のサセプターの高温ウエハを非接触にてローダ・アンローダすることを可能にしました。
　「高温用ウエハ非接触ハンド」は、窒素ガスを噴出することにより、ウエハを空中に浮遊した非接触状態にて懸垂保持し搬送します。
「高温ウエハ非接触ハンド」は、排気を周囲に噴出しない機構を装着しているためＣＶＤ装置内の粉塵を拡散させることなく非接触状態にてウエハを搬送します。
　またウエハ懸垂時に生じるクッション室内の負圧を検出することによりウエハの懸垂保持を確認することが出来ます。 このため側壁に設けられたクッション室に通じる圧力検出口にてクッション室の圧力を検出し、ウエハの懸垂保持・脱着の確認することが可能になりました。

◎特徴
　１．サセプターの高温ウエハを非接触にて把持・搬送が 可能。
２．粉塵を拡散させない。
　３．ウエハの脱着が確認できる。
　４．傷、汚れを付着させない。
５．保持安定性が良い。
６．耐熱仕様である。

◎適応
１．ウエハ
　２．ガラス基板
３．ディスク
　４．プリント基板