レーザーテック(株)のニュースリリース
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2006/11/27
フォトマスク欠陥検査装置新製品
【概要】 レーザーテックは、設計ルール65nm以降の半導体デバイス用フォトマスクに対応する新製品“フォトマスク欠陥検査装置「MATRICSシリーズ」”を製品化し、12月より受注を開始します。 MATRICSシリーズは、マルチダイモード専用のX651, シングルダイモード専用のX652, マルチダイモード・シングルダイモード兼用のX653の３モデルをラインアッ… -
2006/11/07EUVLマスク・サブストレート／ブランクス検査装置「M7360」を発表
【概要】 この度レーザーテックは、EUVL(Extreme Ultra Violet Lithography)用マスク・サブストレート/ブランクス検査装置の最新モデルM7360を発表致します。 【背景】 レーザーテックは、2002年よりSEMATECHとEUVL用マスク・サブストレート/ブランクス検査装置の共同開発を進めてまいりました。この度SEMATECHとの共同開発プロジェクトを成功裏に…
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