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遠赤外線アニール炉

(株)二葉科学

最終更新日:2021/10/07

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従来のバッチ処理の約1／5～1／40の短時間処理を実現

本製品は、高分子材料加熱で多くの実績を持つ遠赤外線ヒーターと、永年の研究開発から生まれた独自の照射機構によって効率の良いアニール処理が行える製品。プラスチックの成形品は、材料自体の分子が赤外線を吸収する特性を持っており、吸収特性は短い波長の近赤外線領域の一部(≒3.5～4μ)と、ほとんど遠赤外線領域(≒5.5～15μ)の長い波長領域に集中している。遠赤外線アニール方式は、この領域のピーク波長を選択照射して成形品自体の分子運動(振動、振幅)を活発にすることができる。

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