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真空プラズマ装置 ガス導入タイプ YHS-G

(株)魁半導体

最終更新日:2015/11/25

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  • 真空プラズマ装置 ガス導入タイプ YHS-G
卓上タイプ、緻密な処理条件の設定が可能
【YHS-G】は、酸素・窒素・アルゴンなどのさまざまなガス導入が可能で、ラボ用途に最適な表面改質用真空プラズマ装置。ワンタッチの簡易な操作性、導入しやすい価格帯を実現。表面処理、薄膜形成前の処理、陽極接合前の処理、塗装前の処理が行え、そのほかバイオ・医療分野でも使用できる。AC100Vのコンセントで動作し、メンテナンスが容易。オプションでガス導入の複数化、ステージサイズの拡大・縮小、RFタイプにも対応可能。

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企業基本情報

社名:
(株)魁半導体
住所:
〒 600-8897
京都市下京区西七条御前田町50
Web:
http://www.sakigakes.co.jp/

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