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真空プラズマ装置 ガス導入タイプ YHS-GZA(φ250)

(株)魁半導体

最終更新日:2018/08/17

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  • 真空プラズマ装置 ガス導入タイプ YHS-GZA(φ250)
緻密な処理条件の設定が可能
【YHS-GZA(φ250)】は、Ar、He、N、Oなどのさまざまなガスを導入できる表面改質用真空プラズマ装置。ワンタッチの簡易な操作性、導入しやすい価格帯を実現。表面処理、薄膜形成前の処理、陽極接合前の処理、塗装前の処理が行え、そのほかバイオ・医療分野で使用できる。圧力計の搭載により、チャンバー内の圧力を確認しながら処理が行え、またφ250mmのステージサイズにより大きいサンプルにも照射可能。オプションでガス導入、ステージサイズ、RFタイプに対応する。そのほか、以下の特長を持つ。

(1)ガス流量計:流量を調整し、チャンバー内の圧力をコントロール可能
(2)φ250のステージサイズ:少し大きなサンプルも処理可能
(3)制御電源:電力量の調整でプラズマの生成量を調整可能

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企業基本情報

社名:
(株)魁半導体
住所:
〒 600-8897
京都市下京区西七条御前田町50
Web:
http://www.sakigakes.co.jp/

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