メンター・グラフィックスのコンサルティング・チームが開発したCalibreフローでGLOBALFOUNDRIESのシリコン歩留まりを改善
2012/03/09
シーメンスEDAジャパン株式会社
メンター・グラフィックス・コーポレーション（本社: 米国オレゴン州、以下メンター・グラフィックス）は、同社のコンサルティング部門がGLOBALFOUNDRIES（本社: 米国カリフォルニア州）のために開発した新しいCalibre設計フローにより、設計歩留まりの向上が実証されたことを発表しました。GLOBALFOUNDRIESとメンター・グラフィックスは、GDSレイアウト・データベースを解析および直接修正できる複数のCalibreツールを統合したこのフローを用いてDFM（Design-for-Manufacturing）を自動的に改善した後にシリコンテストを実施し、テストチップの歩留まりが大幅に向上するという結果を得ました。45/40および32/28ナノメータのプロセスを使用しているGLOBALFOUNDRIESの顧客に提供されるこのフローは、フルチップ設計の工期短縮と設計性能仕様の準拠をしながら、修正プロセスで加えたすべての変更を即時に検証できるため、確実にDRCクリーンな結果を得る上で有効です。
「メンター・グラフィックスのコンサルティング・チームがGLOBALFOUNDRIESのためにフローをカスタマイズしてくれたことを非常に嬉しく思っています。GLOBALFOUNDRIESのお客様が手がけるDFMを簡単かつ迅速に向上させるこのフローによって、性能を犠牲にしたり、DRCエラーを引き起こしたりすることなく、歩留まりを改善できます。また、モジュラ構造のスケーラブルなフローであるため、新しいプロセスへの移行がしやすく、新たに発見された歩留まり低下要因によって加わったDFM問題に対応するための拡張もしやすい点も気に入っています。」GLOBALFOUNDRIES、DFM/CAD Director、R＆D Fellow、Luigi Capodieci氏は、上記のように述べています。
GLOBALFOUNDRIESのための新しい設計フローは、メンター・グラフィックスがコンサルティング・サービスとして提供する歩留まり向上ソリューションの一環です。メンター・グラフィックスのエンジニアがGLOBALFOUNDRIESのエンジニアと直接やり取りして要件を正確に理解し、統合されたCalibreツール群を最大活用できるソリューションを作り上げました。このフローでは、設計データベースを高速にフィルタリングし、DFMを改善すべきエリアを特定し、必要な改善策を施します。そして、変更によってDRC違反や他の問題が発生しないことを確認するために、修正後のレイアウトを即座に再チェックします。また、Calibre nmDRC、Calibre YieldAnalyzer、Calibre YieldEnhancerの各ツールを使用して、メタル拡張、ビア二重化（角ビアのサポートを含む）、ビア・エンクロージャ改善を自動的に実行します。こうした修正によって、シリコン歩留まりが大きく向上しました。非常に効率的な解析に基づき、GDSデータベースを直接処理するため、複雑なフルチップ設計であっても工期を短縮できます。
結果は、Tessent® TestKompress®、Tessent Diagnosis、Tessent YieldInsight®などのメンター・グラフィックスのテスト／歩留まり解析ツールを使用してテストシリコンを直接比較する方法で検証しました。テストで不良となった箇所はレイアウトまで戻って追跡し、不良個所とDFMの改善により除去可能な具体的な歩留まり低下要因とを対応付ける物理的不良解析を使用して根本原因を突き止めました。このGLOBALFOUNDRIESのためのソリューションは、平易なユーザ・インタフェースから改善すべきものとそうでないものをユーザが選べる使いやすさを備えています。また、新しいテクノロジや新しいプロセス・ノードにも簡単に適応できます。例えば、わずか数日で32/28ナノメータから45/40ナノメータにこのフローを移植できた例もあります。
「メンター・グラフィックスのコンサルティング部門が担う役割は、お客様が、メンター・グラフィックスのテクノロジから最大のメリットを享受できるようにすることにほかなりません。メンター・グラフィックスのお客様と緊密に連携し、個別の要件を実用的でスケーラブルなソリューションに転換させていくことを目指しています。メンター・グラフィックスのソリューションは、テクノロジの進化に応じてお客様自身がテクノロジを自発的に拡張し、改善していける設計となっています。GLOBALFOUNDRIESのための歩留まり改善フローは、この哲学を高度な生産環境で具現化した素晴らしい例と言えるでしょう。」メンター・グラフィックス、Worldwide Consulting Division、Vice President and General Manager、Paul Hofstadlerは、上記のように述べています。
メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIESは、来たる2012年3月14日にドイツのドレスデンで開催されるDATE（Design, Automation and Test）カンファレンスにおいて歩留まり最適化に関する共同セミナーを予定しています。詳しくは、http://go.mentor.com/21aedをご覧ください。
「メンター・グラフィックスのコンサルティング・チームがGLOBALFOUNDRIESのためにフローをカスタマイズしてくれたことを非常に嬉しく思っています。GLOBALFOUNDRIESのお客様が手がけるDFMを簡単かつ迅速に向上させるこのフローによって、性能を犠牲にしたり、DRCエラーを引き起こしたりすることなく、歩留まりを改善できます。また、モジュラ構造のスケーラブルなフローであるため、新しいプロセスへの移行がしやすく、新たに発見された歩留まり低下要因によって加わったDFM問題に対応するための拡張もしやすい点も気に入っています。」GLOBALFOUNDRIES、DFM/CAD Director、R＆D Fellow、Luigi Capodieci氏は、上記のように述べています。
GLOBALFOUNDRIESのための新しい設計フローは、メンター・グラフィックスがコンサルティング・サービスとして提供する歩留まり向上ソリューションの一環です。メンター・グラフィックスのエンジニアがGLOBALFOUNDRIESのエンジニアと直接やり取りして要件を正確に理解し、統合されたCalibreツール群を最大活用できるソリューションを作り上げました。このフローでは、設計データベースを高速にフィルタリングし、DFMを改善すべきエリアを特定し、必要な改善策を施します。そして、変更によってDRC違反や他の問題が発生しないことを確認するために、修正後のレイアウトを即座に再チェックします。また、Calibre nmDRC、Calibre YieldAnalyzer、Calibre YieldEnhancerの各ツールを使用して、メタル拡張、ビア二重化（角ビアのサポートを含む）、ビア・エンクロージャ改善を自動的に実行します。こうした修正によって、シリコン歩留まりが大きく向上しました。非常に効率的な解析に基づき、GDSデータベースを直接処理するため、複雑なフルチップ設計であっても工期を短縮できます。
結果は、Tessent® TestKompress®、Tessent Diagnosis、Tessent YieldInsight®などのメンター・グラフィックスのテスト／歩留まり解析ツールを使用してテストシリコンを直接比較する方法で検証しました。テストで不良となった箇所はレイアウトまで戻って追跡し、不良個所とDFMの改善により除去可能な具体的な歩留まり低下要因とを対応付ける物理的不良解析を使用して根本原因を突き止めました。このGLOBALFOUNDRIESのためのソリューションは、平易なユーザ・インタフェースから改善すべきものとそうでないものをユーザが選べる使いやすさを備えています。また、新しいテクノロジや新しいプロセス・ノードにも簡単に適応できます。例えば、わずか数日で32/28ナノメータから45/40ナノメータにこのフローを移植できた例もあります。
「メンター・グラフィックスのコンサルティング部門が担う役割は、お客様が、メンター・グラフィックスのテクノロジから最大のメリットを享受できるようにすることにほかなりません。メンター・グラフィックスのお客様と緊密に連携し、個別の要件を実用的でスケーラブルなソリューションに転換させていくことを目指しています。メンター・グラフィックスのソリューションは、テクノロジの進化に応じてお客様自身がテクノロジを自発的に拡張し、改善していける設計となっています。GLOBALFOUNDRIESのための歩留まり改善フローは、この哲学を高度な生産環境で具現化した素晴らしい例と言えるでしょう。」メンター・グラフィックス、Worldwide Consulting Division、Vice President and General Manager、Paul Hofstadlerは、上記のように述べています。
メンター・グラフィックスとGLOBALFOUNDRIESは、来たる2012年3月14日にドイツのドレスデンで開催されるDATE（Design, Automation and Test）カンファレンスにおいて歩留まり最適化に関する共同セミナーを予定しています。詳しくは、http://go.mentor.com/21aedをご覧ください。
