全自動フォトマスク洗浄装置 TWC-200A
最終更新日:2018/12/20
このページを印刷
コスト削減に有効、マスクに付着したレジストとパーティクルを同時に全自動で除去
【TWC-200A】は、露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発された、コスト削減に有効な全自動フォトマスク洗浄装置。マスクに付着したレジストとパーティクルを同時に全自動で除去する。レジスト除去に関しては、大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮。オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけで使用できる。危険な薬品にさらされることがなく安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献。
一緒に閲覧されている製品
全自動フォトマスク洗浄装置 TWC-200Aのお問い合わせ
その他製品一覧
メタルマスク洗浄機 SC-AH100
チップトレイ洗浄機
マイクロブラスト式表面処理機 …
真空発生器付き超音波洗浄装置 …
全自動FOUP洗浄システム UPC-12…
フッ素系精密洗浄システム コ・…
水系洗浄システム
キャビティーション強化システ…
超音波洗浄機 スタンダード US-…
炭化水素系洗浄装置 HC-350S
スクリーン版洗浄装置 ACT200シ…
炭化水素系洗浄システム
フォトマスク洗浄装置 TW-300
超音波洗浄機 SPMシリーズ
超音波発振器・振動子 SIRIUSシ…
大気圧プラズマ洗浄装置 Aiplas…
部品洗浄機 QUICK DRY D-300／3…
スクリュー自動洗浄装置
超音波洗浄機 MAKROS
