全自動フォトマスク洗浄装置 TWC-200A
最終更新日:2018/12/20
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コスト削減に有効、マスクに付着したレジストとパーティクルを同時に全自動で除去
【TWC-200A】は、露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発された、コスト削減に有効な全自動フォトマスク洗浄装置。マスクに付着したレジストとパーティクルを同時に全自動で除去する。レジスト除去に関しては、大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮。オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけで使用できる。危険な薬品にさらされることがなく安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献。
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