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最終更新日:2014/01/31

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  • ALD原子層堆積装置
原子レベルでの堆積制御が可能
本製品は、デジタル制御により原子層を1層ずつ堆積し、精確な厚さを実現したCambridge Nanotech社製ALD原子層堆積装置。独自の技術による小型化で、導入コストのみならず、運用コストも削減。最少2本〜最大6本の前駆体ライン、コンパクトなオゾン発生器、および内蔵型ALD BoosterTM低蒸気圧前駆体供給システムを組み合わせ、実験に適したシステム構築が可能。
    　　　　　　　　

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企業基本情報

社名：
株式会社ハイテック･システムズ
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〒 222-0033
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Web：
http://www.hightec-sys.com/