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原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20

日本スウェージロックFST

最終更新日:2021/10/21

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  • 原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20
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大流量・高温・高性能、豊富なラインアップで生産性向上に貢献
スウェージロック社は、ALDバルブ技術で世界をリードする企業のひとつとして、半導体デバイス製造アプリケーション向けのソリューションを提供。非常に優れたサイクル・ライフを実現する独自のデザイン/高速の開閉機能/高温下でも安定した流量/シール性能に優れ、膨潤やコンタミネーションへの耐性にも優れたシートを特長としている。超高純度用バルブ「ALD20」は、既存ALDバルブのほぼ3倍にあたる最大1.7Cvの流量係数(当社比)を実現。アクチュエーター部分を含め、バルブ全体をガス・ボックスに入れて使用できる。耐食性に優れているため、腐食性の高い流体も使用可能。

その他の情報

    半導体デバイスの微細化に欠かせないALDプロセス。ガス供給を制御する高い性能が求められるバルブ。

    <3つの課題に 超高純度用 ALD20バルブ>
    1. 大流量:既存ALDバルブのほぼ3倍にあたる最大1.7Cvの流量係数を実現(当社比)
    2. 高温:アクチュエーター部分を含め、バルブ全体をガス・ボックスに入れて使用することが可能
    3. 高性能:耐食性に優れているため、腐食性の高い流体も使用可能

製品カタログ・資料

ALDバルブ技術のブレイクスルー「ALD20超高純度バルブ」
ALDバルブ技術のブレイクスルー「ALD20超高純度バルブ」

ファイル形式:pdf ファイルサイズ:0.85MBALDバルブ技術のブレイクスルー 大流量。高温。高性能。次世代の半導体製造は、ここから始まる 半導体デバイス製造市場では、効率、一貫性、革新性の向上が求められています。そこでスウェージロックは、原子層蒸着(ALD)用バルブ技術のパイオニアとして、次世代の原子層蒸着プロセス・アプリケーションに必要な精度と性能に対する業界ニーズにお応えするべく、「ALD20 超高純度用バルブ」を開発しました。 【特長】 大流量化/フットプリントの最小化 妥協なき一貫性 卓越した品質/最適なデザイン

会社情報

日本スウェージロックFST

私たちはお客さまと共に挑み続けます。

日本スウェージロックFST
〒 663-8142  西宮市鳴尾浜1-1-1
電話 : 0798-77-1500

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