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真空式リフローはんだ付け装置 RF-210V

(株)日本パルス技術研究所

最終更新日:2018/10/11

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  • 真空式リフローはんだ付け装置 RF-210V
小型で低価格を実現
【RF-210V】は、高真空環境でリフローはんだ付けを行う真空式リフローはんだ付け装置。従来高価な装置が必要だったボイドフリーはんだ付けを安価に実現し、実験・試作や小ロットの生産用に使用できる。−95kPa G以下の高真空でリフローはんだ付け、Max400℃、Max150×150mmのワークまで対応、ホットプレート過熱1ゾーン、冷却1ゾーンの2ゾーン式。窒素やグリーンガスも使用可能。
    　　　　　　　　

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企業基本情報

社名：
(株)日本パルス技術研究所
住所：
〒 372-0804
伊勢崎市稲荷町425-3
Web：
http://www.jpl.co.jp/