本製品は、アルミニウム合金製で、小型・軽量の超高真空用 回転導入機。マグネットからのガス放出がなく、高精度、高分解能で、超高真空対応の仕様を備え、クランプ機構付き。アルミニウムフランジタイプは、ICF規格にて鏡面加工後、イオンプレーディング処理がされている。

本製品は、アルミニウム合金製で、小型・軽量の直線導入機。バックラッシュが極めて少ない高精度・高分解能で、超高真空対応の仕様を備え、クランプ機構付き。アルミニウムフランジタイプは、ICF規格にて鏡面加工後、イオンプレーディング処理がされている。

本製品は、ステンレス鋼の1/3と重量が非常に軽いアルミニウム合金製 CrN 表面処理 ICFフランジ。フランジのシール面は高硬度のCrN(イオンプレーティング)で保護されており、フランジ材にはA2219を使用。150℃の低温ベーキング処理でステンレス鋼を上回る低いガス放出率10‐11Pa・m3／sec・m2(10‐13Torr・l／sec・cm2)が可能。

本製品は、アルミニウム合金製で、軽量な2軸回転導入機。インナーシャフト･アウターシャフトが独立して回転可能。モーター駆動ができ、超高真空対応の仕様を備え、クランプ機構付き。アルミニウムフランジタイプは、ICF規格にて鏡面加工後、イオンプレーティング処理がされている。

本製品は、完全非磁性、熱伝導性良、低輻射率の銅合金製 ICFフランジ。ベーク無しでも10-8Pa(10-10Torr)の超高真空を達成でき、100℃低温ベークで10-10Pa(10-12Torr)の極高真空達成が可能。通常の無酸素銅でも10-11Pa・m3／sec・m2が可能。表面処理はNiP処理を行い、酸化およびシール面の保護を行っている。

本製品は、耐腐食性が強く、ケミカルに強いアルミニウム合金製 NiP 表面処理 ICFフランジ。 材料は一般材料(A5052、A5056)を用い、処理もNiPなので非常に安価。真空側のNiP膜をアルコール切削(EL加工)することにより、従来のアルミチャンバーと同等のガス放出率が得られる。

本製品は、超高真空領域(10-6〜10-10Pa)の真空槽内用として使用するボルト・ナット。材質はXM-7(SUS304相当品)およびSUS316Lにて特殊表面処理後、ガス出しを行っているため、放出ガスが少なく、止まり穴のガス溜り防止用として、ボルト・ネジの中央にガスニゲの穴があいている。包装はN2ガス注入封止してあるため、そのまますぐ使用可能。

本製品は、中〜低真空領域(10-2〜10-5Pa)の真空槽内用として使用するボルト。材質は、XM-7(SUS304相当品)およびSUS316Lにてガスニゲ穴加工後、真空用脱脂洗浄を行っている。また、止まり穴のガス溜り防止用としてボルト・ネジの中央にガスニゲの穴があいている。

【SMART CLUSTER】は、3〜12インチまでの基板に対応し、基板以外のタイプでも対応可能なコンパクト基板搬送システム。R＆Dプロセス装置用に最適な低コスト搬送機で、ユミット方式の構成により短納期で対応可能。必要な機能に限定し、セットアップや操作が容易に行え、φ300mm基板搬送機として最小のフットプリントを実現。オールインワンタイプとシン…

本製品は、低輻射率・高熱伝導率の銅合金製 極高真空システム。熱源からのガス放出を1/100まで軽減でき、特殊処理(TOMI研磨)により、超低ガス放出である。100℃程度の低温ベークで10-9Pa台の超高真空を得られ、250℃を超えるベーキングで容易に極高真空を得られる。従来のSUS製品に改良を加えることにより、この技術を応用してガス放出を抑えることが…

本製品は、全自動の超高真空用 脱ガス処理装置。軽量のため基礎工事は不要で、重量はSUS製の1/3、消費電力は従来の1/4を達成。内部ヒーターにより、内部は700℃でも容器温度は40℃前後。全アルミニウム合金製のため、フランジはICF規格品で、冷却用の水冷パイプは不要。

本製品は、レーザー光による真空槽内測定用として開発された超高真空用 ビューポート。平行度5秒以内、平面度λ／10。アルミニウムフランジタイプは、軽量かつICF規格にて鏡面加工後、イオンプレーティング処理がされており、完全非磁性。 フランジと窓材との封止は拡散結合にて行われており、超高真空対応。

本製品は、放射温度計との組み合わせで、正確な測温が可能な弗化バリウム製 特殊ビューポート。マド材質は弗化バリウムで、真空紫外域から赤外域まで広い波長域での使用が可能。フランジと窓材との封止は拡散結合で行われており、超高真空対応。リーク量は1.3×10-11Pa・m3／sec以下(1×10-10Torr・l／sec以下)。

【バキュームアイTM.】は、強磁場、X線の影響を受けずに観察ができる超高真空用CCDカメラ。カメラを被写体の間近に自由に設置でき、10-8Paで使用できる。非常に鮮明な画像が得られ、映像の記録が可能。先端支持アタッチメント付きで、焦点距離調整機能を搭載。MVE-02Sタイプは水冷機能を備えている。

本製品は、静電偏向レンズ採用により､小型・軽量およびビームスポットのヒステリシスフリーを実現した反射高速電子回折装置。ウェネルトとアノードの軸合わせは微調位置決めにより容易で、蛍光スクリーンはフラットなアルミ薄膜付のため､明るさと寿命が飛躍的に向上。静電フォーカスの採用により収束密度の良いビームが得られる。オプションでCCDカ…

本製品は、反射高速電子回折法(RHEED)とオージェ電子分光法(AES)を同時に行うRHEED-AES法を用いて、サンプル表面の構造と組成が同時に観察できる小型半球型エネルギー分析装置。エネルギー分解能約0.83％と高分解能で、電子レンズを備えているため、十分な作業空間を確保できる。稼働部がなく、長寿命でメンテナンスが容易。ビューポート付きなので…

ムサシノエンジニアリングでは、ガス放出率やリーク量といった真空装置メーカならではの保証をした加工が可能。特殊環境対応用の加工法や処理法、精密加工も行っている。部品1個から量産品の注文まで柔軟に対応。

本製品は、同社半球型電子アナライザの中でも、特にエネルギー分解性能を向上させ、フィラメントやフィールドエミッターなど各種電子線源評価用または光電子モニタ用としての機能に特化させた電子線源・光電子分析装置。電源制御から測定まで、すべての動作をコンピュータでリモートコントロールし、高圧電源に対しての安全性を確保。180°完全半球構…

【手動XYスリット】は、スリット部にヘビーメタルを使用した加速器・放射光利用機器。シンプルな構造で、4枚のスリットを独立させての調整が可能。送りには、ブッシュガイド方式またはクロスローラーガイド方式を採用している。

【自動XYスリット】は、スリット部にヘビーメタルを使用した真空用加速器・放射光利用機器。高精度・高分解能で、駆動にステッピングモータを使用し、4枚のスリットを独立させての調整が行える。中低真空用・超高真空用を製作可能。