イオンエネルギー測定器

最終更新日:2015/08/13

各種のバイアス条件下で測定可能

本製品は、真空下でのエッチングやスパッタ、成膜プロセス中におけるイオンエネルギーの測定を行う測定器。プラズマ放電中のプロセス内で、イオンエネルギー分布、イオンフラックス、ネガティブイオン、温度、バイアス電圧の測定が可能。各種のバイアス条件(フローティング、DC、パルスDC、RF)下で測定できる。検出プローブは電極／基板ホルダーに取付け可能で、実プロセスと同条件でプラズマの最適化が行える。