多次元観察・測長走査型電子顕微鏡 MASK MVM-SEM E3640

【MASK MVM-SEM E3640】は、独自の電子ビーム走査技術を用いてマスクやパターンド・メディアの微細パターン寸法を高精度で測定できる多次元観察・測長走査型電子顕微鏡。既存の「E3600シリーズ」の最新機種として測定再現性とスループットを大幅に向上、1Xnmノードのプロセスに対応した。また、シミュレーション露光アプリケーションとリンクさせることで、マスクパターンの補正作業の効率を高め、さらにEDAツールとのリンクも実現したことで、ホットスポット部分のより正確な測定が可能となり、マスク開発のスループットの向上に貢献する。このほか従来機種「E3630」と同様、複数の検出器を並列したマルチディテクター構成と独自の計測アルゴリズムにより、パターンの幅、高さ、側壁角度をリアルタイムで3D観察および3D計測が可能。