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SEM試料作製用トリプルイオンミリング ライカ EM TIC 3X

ライカマイクロシステムズ(株)

最終更新日:2014/09/16

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  • SEM試料作製用トリプルイオンミリング ライカ EM TIC 3X
冷却ステージ、マルチサンプルステージなどの新機能を搭載
【ライカ EM TIC 3X】は、走査型電子顕微鏡(SEM)、微細構造分析(EDS、WDS、オージェ、EBSD)やAFM測定のための断面作製装置。3本のイオンビーム(個別に制御可能)に加え、冷却ステージ、マルチサンプルステージなど新機能を搭載。試料を高速かつ広く深くミリングを行い、高品質な断面を作製可能。硬質材料と軟質材料が積層または混在する試料、多孔質試料、熱に敏感な試料、脆性試料、不均一材料などほとんどすべての材料について、変形や損傷を最小限にとどめながら内部構造を明らかにすることができる。

製品カタログ・資料

SEM試料作製用トリプルイオンミリング ライカ EM TIC 3X
SEM試料作製用トリプルイオンミリング ライカ EM TIC 3X

ファイル形式:pdf ファイルサイズ:4.14MB【ライカ EM TIC 3X】は、走査型電子顕微鏡(SEM)、微細構造分析(EDS、WDS、オージェ、EBSD)やAFM測定のための断面作製装置。3本のイオンビーム(個別に制御可能)に加え、冷却ステージ、マルチサンプルステージなど新機能を搭載。試料を高速かつ広く深くミリングを行い、高品質な断面を作製可能。硬質材料と軟質材料が積層または混在する試料、多孔質試料、熱に敏感な試料、脆性試料、不均一材料などほとんどすべての材料について、変形や損傷を最小限にとどめながら内部構造を明らかにすることができる。

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