製品ナビは、工業製品からエレクトロニクス、IT製品まで、探している製品が見つかります

シリコン基板 Labo-Si

株式会社大興製作所

最終更新日:2023/08/17

このページを印刷
  • シリコン基板 Labo-Si
透過率:1.2~7μm、電子デバイスの材料や透過用窓材に使用可能
【Labo-Si】は、半導体材料として優れた特性を持ち、ダイオードなどの電子デバイスを作成するために広く使用されているシリコン基板。サイズ:10×10×t0.5mm。赤外(IR)用途でも利用できるリーズナブルな材料で、1.2~7μmまでの透過率を実現。

シリコン基板 Labo-Siのお問い合わせ

お問い合わせはこちら

新着製品情報

継続供給 高信頼ウェハストレージ/ダイプロセス
継続供給 高信頼ウェハストレージ/ダイプロセスRochester Electronics Ltd
SiCウェーハ
SiCウェーハ株式会社豊港
シリコン基板 Labo-Si
シリコン基板 Labo-Si株式会社大興製作所
高品質サファイアウエハ
高品質サファイアウエハ西華デジタルイメージ株式会社

企業基本情報

社名:
株式会社大興製作所
住所:
〒 601-8207
京都市南区久世中久町676
Web:
http://www.daico.co.jp/