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縮小投影型露光装置 Stepper（Step and Repeat Exposure Systems）

(株)コシブ精密

最終更新日:2014/02/01

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  • 縮小投影型露光装置 Stepper（Step and Repeat Exposure Systems）
硝材の微細化や高精細・高品位など実現
【Stepper（Step and Repeat Exposure Systems）】は、縮小倍率1／2.5倍を実現した縮小投影型露光装置。従来の等倍密着露光から縮小投影露光への移行を図る装置で、硝材などの微細化をはじめ高精細・高品位なパターンを提供する。主な仕様は、解像度：0.8μm以下、露光光源：365nm（i線）、露光範囲：□44mmで、製作可能な寸法・硝材など別途対応。
    　　　　　　　　

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