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N2対応リフローはんだ付け装置 RF-430シリーズ

(株)日本パルス技術研究所

最終更新日:2014/02/01

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  • N2対応リフローはんだ付け装置 RF-430シリーズ
デジタル式スピード調整器を搭載
【RF-430シリーズ】は、小型サイズながら約5000ppmの酸素濃度を実現したN2対応リフローはんだ付け装置。適合基板は□15〜□300mm、板厚0.1〜2mmで、遠赤外線と熱対流の4ゾーン方式によりスピーディに加熱、安定した温度プロファイルが得られる。非常停止スイッチなどの安全装置を装備した4機種をラインアップ。

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企業基本情報

社名:
(株)日本パルス技術研究所
住所:
〒 372-0804
伊勢崎市稲荷町425-3
Web:
http://www.jpl.co.jp/