ギ酸還元/水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-450-300
最終更新日:2021/11/10
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製品カタログ・資料
- 真空はんだリフロー装置 VSS-450-300
ファイル形式:pdf ファイルサイズ:1.21MB【VSS-450-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能な真空はんだリフロー装置。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度:450℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応。高速赤外(IR)ヒーターを装備し、最大毎分100℃以上(毎秒1.7℃以上)の高速昇温を行え、また、オプションの上部IRヒーターモジュール搭載時には、毎分350℃の圧倒的なパフォーマンスを発揮。プロファイルプログラムの指示値による任意の昇温速度で昇温させることも可能。高速降温を実現するための「水冷システム」も標準装備。高品質なはんだリフローに要求される温度制御コントロールを簡単に実現できるほか、連続運転時の待ち時間を大幅に短縮することが可能。
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