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製品カタログ・資料
- ガスクラスターイオンビーム装置
ファイル形式:pdf ファイルサイズ:0.38MB本装置は、数十~数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム(GCIB)を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来る。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能。
ファイル形式:pdf ファイルサイズ:0.38MB本装置は、数十~数万個の気体原子や分子の集団をイオン化して適度なエネルギーに加速したビーム(GCIB)を非加工物に照射する事で表面の超平滑化や改質を低ダメージで行う事が出来る。原子分子レベルの加工のため、すでに形状加工された微細構造物の平滑化やエッチング加工、表面加工が可能。