成膜装置 Rotarius

【Rotarius】は、磁性材料などの開発から量産までサポートすることを目的に開発された成膜装置。直径100m／mのターゲットを使用し、300m／mのウエハを±1％の膜圧分布で成膜することが可能。最大12種類のスパッタカソードを搭載、DC／RF／パルスDC電源を持ち、2カソード同時のCO Sputterも可能。さらにオプションとして、基板加熱機構およびイオンソースも搭載できる。基板ホールダを傾けることによりアングルオブインシデンスを変えられ、基板の回転、またリニアに動かすことも可能で、それにより膜厚を傾斜して分布させることや磁性体の軸を整列させることも可能。磁気センサ、磁気ヘッド、MRAM、MEMSなど多層膜を均一に付けるニーズに幅広く対応。