フォトマスク洗浄装置(フォトマスククリーナー) TW-200

製品カタログ・資料

フォトマスク洗浄装置 (フォトマスククリーナー) モデルTW-200

ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.56MB■■■　少量多品種、R＆D用途にも最適　■■■ 【TW-200】は、ワークのスクラブ洗浄、リンス、乾燥を一台の装置でスピーディーに行うフォトマスク洗浄装置。 ・特殊洗浄ブラシにより、ワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行うことができます。 ■主な特長： (1)縦型処理のため、ワークにストレスがかからない (2)少量多品種、R＆D用途の基板洗浄にも最適 (3)各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーを用意 (4)ワーク接触部分は樹脂にて対応 ・フォトマスク：半導体用、液晶用、有機EL用、カラーフィルター用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、PCB用、FPC用、その他、板状基板などの洗浄が可能。 ※各種オプションも用意。 ※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。