シリコン基板ホルダ
最終更新日:2024/05/12
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結晶成長や、光学薄膜実験に最適
本製品は、4インチのシリコンウェハにザグリ加工を施し、実験用の基板を載せることができる特性を持った基板ホルダ。サイズ：シリコンウェハベースφ100×0.525mm、ザグリ部10.5×10.5×深さ0.3mm。プラズマエッチング装置やイオンエッチング装置、各種実験などにおいて、基板を載せた状態で4インチのシリコンウェハとして扱うことができる。
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