エキシマ照射ユニット
最終更新日:2021/03/15
このページを印刷
励起酸素原子や各種ラジカルを短時間で生成
本製品は、ドライ洗浄、親水化／濡れ性向上、密着性／接着性向上、アッシング／残渣除去などさまざまなアプリケーションに対応するエキシマ照射ユニット。反応性の高い励起酸素原子(O3p、O1D)や各種ラジカルを短時間で生成することが可能。水銀を使用していないためランプ温度が低く、温度上昇に影響する波長が少ないほか、瞬時点灯により低CoO化の実現に寄与する。
一緒に閲覧されている製品
製品カタログ・資料
- エキシマ照射ユニット
ファイル形式：pdf ファイルサイズ：4.26MBドライ洗浄、親水化／濡れ性向上、密着性／接着性向上、アッシング／残渣除去などさまざまなアプリケーションに対応するエキシマ照射ユニット 反応性の高い励起酸素原子(O3p、O1D)や各種ラジカルを短時間で生成することが可能
エキシマ照射ユニットのお問い合わせ
