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加熱炉

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【Mini-BENCH】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
テルモセラ・ジャパン株式会社
■卓上サイズ省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm(*2inch用チャンバー参考値)
窒素リフロー炉 SNR-GTII
千住金属工業(株)
【SNR-GTII】は、既存の窒素リフロー炉「SNR-GT」の後継機。新しい炉内の熱循環シス…
マイクロ波加熱試験装置 FDU-201VP-01
富士電波工機(株)
【FDU-201VP-01】は、使いやすさを考え、マグネトロンを使わない半導体式のマイクロ…
高精度プログラマブルホットプレート HP-220
ユニテンプジャパン(株)
【HP-220】は、小規模の実験や試作などで、高い精度で温度制御をしつつ、手軽にリフ…
透明電気炉(ゴールドファーネス) TF-0410301／0410501／06…
石川産業(株)
【TF-0410301／0410501／0610501】は、1,000℃までの温度で動作する透明な抵抗加熱型…
鉛フリー窒素リフロー装置 NRY-626S-8Z・NRY-626S-8Z／W
(株)大和製作所
【NRY-626S-8Z・NRY-626S-8Z／W】は、Mサイズ(W260)基板対応の鉛フリー窒素リフロー…
誘導電流式ベアリング加熱機シマサーム
株式会社エスティジェイ
【シマサーム】は、最新のエレクトロニクスと誘導コイルの斬新な配置により、ベアリ…
大気圧クリーン加熱装置
(株)オーナルテック
【大気圧クリーン加熱装置】は、大気圧下でガラス基板やシリコンウェハなどの試料を…
水切り乾燥装置
(株)島谷技研
【水切り乾燥装置】は、液面降下速度をコントロールすることで次工程の乾燥を素早く…
棚段型式高真空熱処理装置
神港精機(株)
本装置は、真空チャンバー内に多段の熱板を配置し、高真空雰囲気中で効率よくかつ高…
高品質乾燥システムハイパー・ドライ
サクラ精機(株)
【ハイパー・ドライ】は、米国・欧州・豪州・日本で特許を得た高品質乾燥システム。…
手許溶解兼保持炉 SMKシリーズ
株式会社正英製作所
【SMKシリーズ】は、新開発の溶解ガスバーナーと保持ガスバーナーを採用し、酸化物の…
卓上型高速加熱アニール装置 RTP-150
ユニテンプジャパン(株)
【RTP-150】は、装置筐体部の冷却機構を標準装備したΦ6インチ対応真空・プロセスガス…
超高温真空・ガス雰囲気電気炉レッドデビル
石川産業(株)
【レッドデビル】は、最高2200℃の超高温で、より高度な研究が可能な超高温真空・ガス…
真空加熱装置
(株)オーナルテック
本製品は、真空・加熱・雰囲気ガスを変えて物質の創製の研究をサポートする研究開発…
鉛フリー窒素リフロー装置 NRY-650S-8Z・NRY-650S-8Z／W
(株)大和製作所
【NRY-650S-8Z・NRY-650S-8Z／W】は、LLサイズで(W500)基板／はんだバンプ形成用の鉛…
超クリーン熱処理装置
神港精機(株)
本装置は、密閉チャンバー内に高度にクリーン化したN 2 ガスを常に供給する事により…
省エネルギー排熱回収型レキュペバーナー STBWバーナー
株式会社正英製作所
【STBWバーナー】は、従来バーナーより排熱回収力を高めたレキュペバーナー。ガスバ…
半導体式マイクロ波加熱試験装置
富士電波工機(株)
本製品は、電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズなど、使い易さを考えて新開発…
卓上型高速加熱アニール装置 RTP-100
ユニテンプジャパン(株)
【RTP-100】は、装置筐体部の冷却機構を標準装備したΦ4インチ対応真空・プロセスガス…

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