ファイル形式：pdf ファイルサイズ：0.3MB【HP-220】は、小規模の実験や試作などで、高い精度で温度制御をしつつ、手軽にリフローを導入できるホットプレート。ギ酸還元や真空などには対応していないが、窒素パージや16stepの温度プログラム機能など、必要な機能だけを搭載。セットアップも簡単に行えるため、手軽に幅広い用途で活用できる。250℃まで対応可能なカートリッジヒーターは、P.I.D制御でオーバーシュートのない最適な温度制御が行える。プレートの面内温度差も±1°C以内に制御。繰り返し精度よくムラのないはんだづけを実現する。
＜ギ酸還元／水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置 RSS-110-S＞
【RSS-110-S】は、RSSシリーズの中で最も小さなリフロー炉を実現した卓上型真空はんだリフロー装置。ヒータープレートの有効寸法は110×110mmで、大気、窒素、真空、ギ酸、水素などの各リフローに1台で対応する。また、通常のリフローに加えて、鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスなどの各リフローが可能。最大到達温度：400℃に標準対応しており、熱容量の大きな部品であっても、ゆとりをもってはんだ融点温度に到達させることができるほか、高融点はんだも問題なく使用することが可能。装置筐体部の冷却機構を標準装備し、チャンバー内が高温でも、筐体は常に安全な温度を保つ。そのほか、高速昇温／降温に対応、多彩なリフロープロファイル設定が可能、のぞき窓を標準装備といった特長を持つ。
＜ギ酸還元／水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-450-300＞
【VSS-450-300】は、試作開発用途のほか、インラインシステムにも組込み可能な真空はんだリフロー装置。装置筐体部の冷却機構を標準装備。安全に配慮しながら最大到達温度：450℃を実現しており、SiAu、SiAl、SiMoなどのアニーリングプロセスだけでなく、ペースト材料などの焼結プロセスにも対応。高速赤外(IR)ヒーターを装備し、最大毎分150℃以上(毎秒2.5℃以上)の高速昇温を行え、また、オプションの上部IRヒーターモジュール搭載時には、毎分240℃の圧倒的なパフォーマンスを発揮。プロファイルプログラムの指示値による任意の昇温速度で昇温させることも可能。高速降温を実現するための「水冷システム」も標準装備。高品質なはんだリフローに要求される温度制御コントロールを簡単に実現できるほか、連続運転時の待ち時間を大幅に短縮することが可能。
