大気圧クリーン加熱装置

【大気圧クリーン加熱装置】は、大気圧下でガラス基板やシリコンウェハなどの試料を加熱し、成膜や乾燥を行うプレート型ヒータ装置。大気圧でクリーンな加熱ができるほか、粉塵が少ない、金属汚染が少ない、均熱精度が高い、窒素ガスなどに雰囲気を変えられることなどが特長。加熱プレートの大きさは420×500mm。使用温度は最高350℃。